專註(zhu)真(zhen)空(kong)泵與(yu)係(xi)統設(she)計(ji)製(zhi)造16年
額(e)定(ding)流量(liang):100m³/h(50Hz)
極(ji)限壓力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓(ya):320-440(50Hz)
功率(lv):0.4Kw
口(kou)逕(jing):VG5...
額(e)定(ding)流(liu)量:300m³/h(50Hz)
極(ji)限壓(ya)力≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓:320-440(50Hz)
功(gong)率:0.75Kw
口逕:VG...
額(e)定(ding)流(liu)量(liang):500m³/h(50Hz)
極限壓(ya)力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電(dian)壓(ya):320-440(50Hz)
功率:2.2Kw
口逕(jing):VG6...
額(e)定(ding)流(liu)量:1100m³/h(50Hz)
極限(xian)壓(ya)力(li)≤1x10-3mbr(abs)
電壓:320-440(50Hz)
功率(lv):3.7Kw
口(kou)逕:VG...
可(ke)應(ying)用于(yu):蒸(zheng)髮鍍膜、磁(ci)控濺射、捲繞鍍膜、離子鍍(du)膜、光(guang)學(xue)鍍膜(mo)等;單(dan)晶(jing)鑪、多晶鑪(lu)、真(zhen)空(kong)熱處(chu)理(li)鑪(lu)、燒結(jie)鑪(lu)、...
可(ke)應(ying)用(yong)于:蒸髮鍍(du)膜、磁控濺射、捲(juan)繞鍍(du)膜、離(li)子鍍(du)膜、光(guang)學鍍(du)膜等;單(dan)晶鑪、多(duo)晶鑪、真(zhen)空(kong)熱(re)處(chu)理(li)鑪、燒結(jie)鑪(lu)、...
可應用于:蒸髮鍍(du)膜(mo)、磁(ci)控(kong)濺(jian)射(she)、捲(juan)繞(rao)鍍(du)膜、離(li)子(zi)鍍(du)膜(mo)、光學鍍(du)膜(mo)等;單(dan)晶鑪、多晶鑪(lu)、真空(kong)熱(re)處(chu)理鑪、燒結鑪(lu)、...
可應用(yong)于(yu):蒸(zheng)髮(fa)鍍膜(mo)、磁控(kong)濺射、捲(juan)繞(rao)鍍膜、離(li)子(zi)鍍膜(mo)、光學鍍膜等(deng);單晶鑪(lu)、多晶(jing)鑪(lu)、真空(kong)熱(re)處理(li)鑪、燒結(jie)鑪(lu)、...